工业纯水纯度指标
美国半导体工业用纯水指标 化学指标单位:μg/L
项 目
Ⅰ级
Ⅱ级
Ⅲ级
Ⅳ级
残渣,mg/L
0.1
0.3
0.5
TOC,mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒,粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数,个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2,μg/L
3
5
40
电阻率MΩ·cm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子,μg/L
0.2
2.0
5.0
*
铝 Al3+
铵 NH4+
铬 Cr6+
铁 Fe 3+
铜 Cu 2+
锰 Mn 2+
1.0
钾 K +
4.0
钠 Na +
锌 Zn 2+
0.03
阴离子,μg/L
溴 Br -
氯 Cl -
0.8
亚硝酸根 NO2-
硝酸根 NO3-
磷酸根 PO43-
硫酸根 SO42-
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