工业纯水纯度指标
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    工业纯水纯度指标


    美国半导体工业用纯水指标 
    化学指标单位:μg/L

    项 目

    Ⅰ级

    Ⅱ级

    Ⅲ级

    Ⅳ级

    残渣,mg/L

    0.1

    0.3

    0.3

    0.5

    TOCmg/L

    0.02

    0.05

    0.10

    0.40

    颗粒,粒/L

    500

    1000

    2500

    5000

    细菌数,个100mL

    0

    6

    10

    50

    活性硅SiO2μg/L

    3

    5

    10

    40

    电阻率MΩ·cm

    18.3

    17.9

    17.5

    17.0

    阳离子,μg/L

    0.2

    2.0

    5.0

    *

     Al3+

    0.2

    2.0

    5.0

    *

     NH4+

    0.3

    0.3

    0.5

    *

     Cr6+

    0.02

    0.1

    0.5

    *

     Fe 3+

    0.02

    0.1

    0.2

    *

     Cu 2+

    0.02

    0.1

    0.5

    *

     Mn 2+

    0.05

    0.5

    1.0

    *

     K +

    0.1

    0.3

    1.0

    4.0

     Na +

    0.05

    0.2

    1.0

    5.0

     Zn 2+

    0.03

    0.1

    0.5

    *

    阴离子,μg/L

    0.1

    0.1

    0.3

    *

     Br -

    0.1

    0.1

    0.3

    *

     Cl -

    0.05

    0.2

    0.8

    *

    亚硝酸根 NO2-

    0.05

    0.1

    0.3

    *

    硝酸根 NO3-

    0.1

    0.1

    0.5

    *

    磷酸根 PO43-

    0.2

    0.2

    0.3

    *

    硫酸根 SO42-

    0.05

    0.3

    1.0

    *

 

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